Технологии микроэлектроники. Химическое осаждение из газовой фазы

Код товара 2311656
АвторКиреев
Издательство Техносфера
Год выпуска2006
ISBN5-94836-039-3
Оформлениетвердый переплет
Кол-во страниц 192
Размер 60x90/16

Наличие в е-магазине

товар доступен под заказ только в розничных магазинах
Цена в интернет-магазине
101 
Проведена классификация процессов и оборудования химического осаждения из газовой фазы (ХОГФ), используемых в технологии производства интегральных микросхем (ИМС), и показаны тенденции их развития. Приведены основные характеристики элементов микроструктур ИМС, получаемых в процессах ХОГФ, а также технологические характеристики самих процессов и используемых реагентов. Рассмотрены параметры оборудования для реализации процессов ХОГФ и проведен анализ его возможностей, достоинств и недостатков при осаждении функциональных слоев микросхем. Приведены основные электрофизические характеристики осаждаемых пленок.
Для инженеров-технологов и научных работников, использующих в своей практической работе химическое осаждение пленок из газовой фазы. Книга может быть полезна также студентам старших курсов, аспирантам и преподавателям ВУЗов.



Рецензии и отзывы на книгу "Технологии микроэлектроники. Химическое осаждение из газовой фазы"

Ваш отзыв будет первым






Лидеры продаж